光催化 好设备至诚造 光催化废气处理设备

uv光催化氧化

可以看出，曾经的试验中大多使用254nm-380nm的光源，跟着光源技能的发展前进，真空紫外线光源（UV）光源的遍及，高能光源逐步开端使用于光催化的试验研讨，UV紫外灯的光波波长是185nm，相当于6.7eV，可以开裂大部分化学键，使得光催化可以直接分化一些VOCs。一起UV 也可以经过2.1所述的光催化进程分化VOCs。光催化可以将空气中的水和氧气分化为羟自由基、活性氧原子和臭氧，进而分化VOCs。而真空紫外线光催化反响可以去除真空紫外线发生的臭氧，削减臭氧在室内的排放，有利于真空紫外线光催化技能在空气净化范畴的使用，进步光催化反响功率和削减副产物的发生都有杰出的作用。

初始浓度对降解率的影响

污染物浓度和反响功率的联系可以用Langmuir-Hinshelwood 模型，这适用于大多数的污染物，包含乙醇、甲醛、家苯、三氯乙烯等（ Peral andOllis，1992;SauerandOllis，1994；Peral andOllis，1992;Obee and Brown，1995;Yang etal.，2004；Hager andBauer，1999;Sanchez etal.，1999）。uv光催化氧化依据Lagmium-Hinsherwood动力学方程，气固相光催化反响进程中，当反响物浓度很低时，光催化降解率与浓度呈正比，光催化降解表现为一级动力学方程；跟着反响物浓度添加，uv光催化氧化降解率略有所添加；当浓度到达某一值时，反响速率不再发生变化，只与活性方位的表面反响速率常数有关，反响速率为一常数，光催化降解表现为零级反响动力学。若反响物浓度过高，会导致催化剂失活。

uv光催化氧化

uv光催化氧化

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纳米光催化技术改进措施

纳米光催化技术作为光催化去除挥发性有机污染物的重要技术，uv光催化氧化原理在于紫外线照射环境下，光催化设备通过光子能量，产生高活性的电子-空穴对，有效降解挥发性有机污染物，当光催化设备为纳米级别时，纳米粒子受表面效应等反应作用，光催化提高了电荷分离效率，强化了光催化设备的吸附能力，进而提升光催化设备活性，实现去除挥发性有机污染物的理想效果。但由于纳米光催化技术的应用需要结合挥发性有机污染物的种类和实际条件，该技术的反应机制还有待研究。当前，纳米光催化设备的见光率和降解率还不强，光催化废气处理设备，为提升光催化设备的活性需要采取改进措施：光催化利用光活性化合物增加纳米TiO2光催化设备的可见光利用率，光活性化合物可吸附于纳米TiO2催化剂表面，增加波长范围，常用的光活性化合物包括钌酞菁等，提高对可见光的吸收率，有效降解挥发性有机污染物。

进口浓度对家苯去除率的影响

光催化试验光源选用一盏10W的真空紫外线（UV）灯，流量为0.6L/min，逗留时间为25s，相对湿度45%，负载P25光催化设备的玻璃珠为UV光催化设备的填料。每距离15min从反响器出口采样，分别在光催化反响器进口浓度为60mg/m3、100mg/m3、200mg/m3、400mg/m3。800mg/m3条件下测定家苯的去除率。当家苯的进口浓度由60mg/m3升高至800mg/m3时，家苯的去除率由69%下降至14%。依据Lagmium-Hinsherwood动力学方程，uv光催化氧化，在气固相光催化反响过程中，当uv光催化氧化反响物浓度很低时，光催化光催化降解率与浓度呈正比，光催化降解表现为一级动力学方程；

跟着反响物的浓度添加，去除率略有所添加；而本试验所选用废气中为中低浓度的家苯，当家苯的浓度在这一个范围内，uv光催化氧化反响速率只与活性方位的表面反响速率常数有关，反响速率为一常数，光催化降解表现为零级反响动力学。若反响物浓度过高，使得在反响时间内很多的家苯分子未能与活性空位触摸，而直接流出反响器，光催化，导致了反响去除率的下降，一起因为家苯浓度过高，反响不行完全，催化剂外表吸附了部分反响中心产品，占有了光催化反响的活性位也会导致光催化反响的功率下降。

光催化

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